在半導體製造業中，水的純度對生產流程和產品品質至關重要。EDI超純水系統（電去離子超純水系統）是半導體生產中不可或缺的設備，能夠提供超高純度的水質，用於清洗晶片、稀釋化學品以及製造工藝的其他關鍵環節。
EDI超純水系統的工作原理是結合電去離子技術與RO（反滲透）純水技術，通過離子交換膜和電場作用，將水中的殘留離子進一步去除。該系統通常作為RO純水系統的後端升級設備，進一步提升水質，達到超純水標準。
半導體製造中的應用
- 晶片清洗：半導體晶片的製造過程中，每道光刻和刻蝕工序後都需要進行徹底清洗，超純水是不可替代的介質。EDI超純水系統能保證清洗用水不含雜質或離子，避免對晶片表面造成污染，確保產品品質穩定。
- 化學品稀釋：半導體生產過程中大量使用腐蝕性化學品，如硫酸、氫氟酸等。使用超純水稀釋這些化學品，能確保反應精準且不引入其他雜質，避免生產過程中的化學干擾。
- 冷卻水系統；半導體生產設備運行過程中需要大量冷卻水。EDI超純水系統生產的水質不僅能提高冷卻效率，還能避免設備結垢，延長設備壽命。
EDI超純水系統的應用範圍並不僅限於半導體行業，還可用於製藥、電子、光伏等高端製造領域。隨著泰國環保法規的推進和行業升級，企業對節能、環保的水處理設備越來越重視。
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